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　　半(ban)导體指的是在常温下导電性能介於导體(ti)與絕缘體之間的材料，半导體在加工的過程中會(hui)產生一種氮氧化(hua)物的工業废氣，今天了解一下關(guan)於半导體工業氮氧(yang)化物的废(fei)氣處理。

　　氮氧化物分為一(yi)氧化二氮(N2O)、一氧化氮 (NO)、二(er)氧化氮(NO2)、三(san)氧化二氮(N2O3)、四氧化二(er)氮(N2O4)和五(wu)氧化二氮(dan)(N2O5)等，氮(dan)化物遇(yu)光、湿或(huo)熱變成二氧化氮及一氧化氮，一氧化氮又變為二氧化氮，不同价位的氮(dan)化(hua)物毒性不同。

　　常见的半导體原材料有(you)硅、锗、砷化镓等，加工廠(chang)在加(jia)工期間的主要污染物有一氧化氮 、一氧化二氮、二(er)氧化氮、三(san)氧化二氮、四氧化二氮和五氧(yang)化二氮、HF等。

　　半导(dao)體氮氧化物废(fei)氣采用的燃烧控製技術、煙(yan)氣脱硝技術以及炉内喷射吸收剂，工業废氣處理的NOx一般采用(yong)過程后處理，脱除(chu)技術又分為干法和湿法兩大類(lei)，干(gan)法包括催化(hua)還原法、催化分解法、吸附法等，干(gan)法包括催化(hua)還原法、催化分解法、吸附法(fa)。

　　湿法於干法相比，采用(yong)的水處(chu)理工藝簡單、吸收剂(ji)種類多、操(cao)作(zuo)費用低廉、適(shi)應性強等優勢。