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　　随着電子產(chan)品的應用越來越廣泛(fan)，電(dian)子設備的需求量就會在不断的增(zeng)长中，在半导體芯(xin)片生產的過程中不但會產生大量的工業污水而且還會(hui)產生具有污染性的工業废氣，面對工廠產生(sheng)的这部分工(gong)業废氣應如何處理，本文了解關於半(ban)导體芯片生產工業的废氣處理設備(bei)。

　　半导體芯片加工廠的(de)工業废氣主要包含了硫(liu)酸雾、氟化物、氯化物、氯氣、氨氣(qi)、硫酸雾等的酸/碱废(fei)氣以及氮氧化物、二氧化硫、非甲(jia)烷总烃等(deng)的有機废氣，具有挥发性的VOCs以(yi)及酸碱废氣主要來源於對芯片的清洗(xi)、均胶(jiao)、去胶(jiao)、刻(ke)蚀、顯(xian)影過程中產生的，这部分(fen)的废氣浓度小(xiao)且排放量大。

　　半导體废氣采(cai)用的是洗涤塔废氣(qi)處理設備進行處理的，洗涤塔分(fen)為立式(shi)和卧式，这兩者之間的區別就在於立式废氣洗涤(di)塔(ta)是氣液兩相逆流接触，而卧式废氣洗涤(di)塔是氣液兩相交叉(cha)流接触。

　　洗涤塔废氣處理設備主要由循環水箱、循環(huan)水管(guan)路、除雾層、填料層以及塔體組成，設備的(de)工作流程大致為：酸/碱性(xing)废氣收(shou)集→酸/碱式洗涤塔→离心風機→煙(yan)囱(達標排放)。

　　除了采用洗涤塔設備還可以選擇(ze)采(cai)用沸石轉轮或者是TO直燃式熱氧化(hua)焚烧炉。

　　温馨提示：半导體工業废氣(qi)需先經過预處理過滤裝置進行大顆粒粉尘及雜質的去除才能進(jin)入沸石轉轮吸附裝置或者是TO直燃式熱氧化焚烧炉進行后續(xu)的處理(li)。